Jaesung Engineering 提供半導體、化學、物理、材料和 MEMS 領域所需的解決方案和設備。 為廣泛領域的光刻技術提供制造和實驗室設備提供了一個環境，可以在該環境中執行抗反射涂層、各種聚合物、光刻膠和導電薄膜的各種完整應用。Jaesung JS401 旋涂機 /SPIN COATING SYSTEM一個用戶友好的數字程序，提供帶有可選光刻膠、EBR、HMDS 或 BSR 的點膠軟件。 JS401 旋涂系統使用方便、結構緊湊、堅固耐用，是一種臺式類型，以具有競爭力的價格提供給需要高性能的客戶。   落地式也作為選項提供，它配備了自動化學供應裝置、HEPA 過濾器、自動排氣系統和晶片對準功能。程序和硬件戴爾轉速重復性：< 0.05 %轉速分辨率：< 0.05%基板尺寸（<1 cm - 300 mm 圓形 / 220 x 220 方形）可靠性全不銹鋼拋光 304 結構排空位于碗底部的端口用于惰性旋轉環境的可選氮氣吹掃基本自動點膠裝置最多可擴展至 4 個（PR、EBR、HMDS、BSR 或開發）1 年保修（零件和人工）向客戶提供無限的應用程序液晶觸摸屏20個工藝程序每個程序 20 個步驟（可通過軟件選項升級）步進時間的 0.1 秒分辨率加速度和減速度可設置為 0.1 秒分辨率（可編程斜坡）旋轉速度 0 - 6,000 rpm（10,000 rpm 選項）旋轉速度加速度：0 - 30,000 rpm/秒卸載0 - 23,000 rpm/sec，100 mm SI 晶圓可編程邏輯控制器 (PLC) 系統控制器最大限度。晶圓：4" (JS401-100)、6" (JS401-150)、8" (JS401-200)、12" (JS401-300)可選手動 PR 分配器、EBR 和顯影劑可選的手動晶圓對準工具標準同時分配能力擴展到 4 個單位（帶壓力罐）   -- 光刻膠、EBR、HMDS、BSR 或顯影安全性：真空吸盤聯鎖可選地板類型：HEPA 過濾器、排氣自動阻尼器和晶圓裝載對齊帶有擺動噴嘴的可選自動點膠裝置Jaesung JS401-300 旋涂機 Spin Coater ，落地式JS401-300 的 12 英寸晶圓旋涂機專為各種手動和自動研發過程中的多功能性、易用性和安全性而設計。旋涂機非常適合硅晶片、玻璃、大型光掩模、掩模版的涂層和顯影等工藝?！?結合 PR 涂層用點膠噴嘴● 易于使用● 可重復的性能● 編程的靈活性● 可選自動擺臂點膠系統● 晶圓對齊工具Jaesung JS401-300 旋涂機規格可編程 20 個步驟，存儲 20 個配方PLC和LCD觸摸屏顯示準確度 +- 1 RPM最高轉速：4,000加速度：10,000RPM/秒。加減速度可設定 0.1 秒。SUS304 主體和碗，易于清潔和耐化學性附有手動晶圓對準工具排水口用于觀察的透明玻璃門最大300mm直徑晶圓標準干式真空泵：100 升/分鐘，0.5 ATM標準樣品夾頭尺寸 1000W x 800D x 1800H mm220VAC，60Hz，15安培重量：225 公斤規格

Jaesung Engineering 提供半導體、化學、物理、材料和 MEMS 領域所需的解決方案和設備。 為廣泛領域的光刻技術提供制造和實驗室設備提供了一個環境，可以在該環境中執行抗反射涂層、各種聚合物、光刻膠和導電薄膜的各種完整應用。Jaesung JS401 旋涂機  Spin Coater/SPIN COATING SYSTEM一個用戶友好的數字程序，提供帶有可選光刻膠、EBR、HMDS 或 BSR 的點膠軟件。 JS401 旋涂系統使用方便、結構緊湊、堅固耐用，是一種臺式類型，以具有競爭力的價格提供給需要高性能的客戶。落地式也作為選項提供，它配備了自動化學供應裝置、HEPA 過濾器、自動排氣系統和晶片對準功能。程序和硬件戴爾轉速重復性：< 0.05 %轉速分辨率：< 0.05%基板尺寸（<1 cm - 300 mm 圓形 / 220 x 220 方形）可靠性全不銹鋼拋光 304 結構排空位于碗底部的端口用于惰性旋轉環境的可選氮氣吹掃基本自動點膠裝置最多可擴展至 4 個（PR、EBR、HMDS、BSR 或開發）1 年保修（零件和人工）向客戶提供無限的應用程序液晶觸摸屏20個工藝程序每個程序 20 個步驟（可通過軟件選項升級）步進時間的 0.1 秒分辨率加速度和減速度可設置為 0.1 秒分辨率（可編程斜坡）旋轉速度 0 - 6,000 rpm（10,000 rpm 選項）旋轉速度加速度：0 - 30,000 rpm/秒卸載0 - 23,000 rpm/sec，100 mm SI 晶圓可編程邏輯控制器 (PLC) 系統控制器最大限度。晶圓：4" (JS401-100)、6" (JS401-150)、8" (JS401-200)、12" (JS401-300)可選手動 PR 分配器、EBR 和顯影劑可選的手動晶圓對準工具標準同時分配能力擴展到 4 個單位（帶壓力罐）   -- 光刻膠、EBR、HMDS、BSR 或顯影安全性：真空吸盤聯鎖可選地板類型：HEPA 過濾器、排氣自動阻尼器和晶圓裝載對齊帶有擺動噴嘴的可選自動點膠裝置Jaesung JS401-200 旋涂機  Spin CoaterJS401-200 臺式系列小型基材旋涂機專為各種手動和自動研發過程中的多功能性、易用性和安全性而設計。旋涂機非常適合硅晶片、玻璃、大型光掩模、掩模版的涂層和顯影等工藝?！?易于清理碗● 易于使用● 可重復的性能● 靈活性● 經濟的臺式系統中的可編程性。規格可編程 20 個步驟，存儲 20 個配方PLC和觸摸屏操作準確度 +- 1 RPM最高轉速：4,500加速和減速可設置為 0.1 秒。加速度：3,000RPM/秒。SUS304本體和碗易于清潔和耐化學性排水口碗的透明 PC 蓋最大200mm直徑板標準干式真空泵：100 升/分鐘，0.5 ATM標準樣品夾頭尺寸 500W x 500D x 375H 毫米220VAC，60Hz，5安培重量：25 公斤

Jaesung Engineering 提供半導體、化學、物理、材料和 MEMS 領域所需的解決方案和設備。 為廣泛領域的光刻技術提供制造和實驗室設備提供了一個環境，可以在該環境中執行抗反射涂層、各種聚合物、光刻膠和導電薄膜的各種完整應用。Jaesung JS401 旋涂機 Spin Coater /SPIN COATING SYSTEM一個用戶友好的數字程序，提供帶有可選光刻膠、EBR、HMDS 或 BSR 的點膠軟件。 JS401 旋涂系統使用方便、結構緊湊、堅固耐用，是一種臺式類型，以具有競爭力的價格提供給需要高性能的客戶。   落地式也作為選項提供，它配備了自動化學供應裝置、HEPA 過濾器、自動排氣系統和晶片對準功能。程序和硬件戴爾轉速重復性：< 0.05 %轉速分辨率：< 0.05%基板尺寸（<1 cm - 300 mm 圓形 / 220 x 220 方形）可靠性全不銹鋼拋光 304 結構排空位于碗底部的端口用于惰性旋轉環境的可選氮氣吹掃基本自動點膠裝置最多可擴展至 4 個（PR、EBR、HMDS、BSR 或開發）1 年保修（零件和人工）向客戶提供無限的應用程序液晶觸摸屏20個工藝程序每個程序 20 個步驟（可通過軟件選項升級）步進時間的 0.1 秒分辨率加速度和減速度可設置為 0.1 秒分辨率（可編程斜坡）旋轉速度 0 - 6,000 rpm（10,000 rpm 選項）旋轉速度加速度：0 - 30,000 rpm/秒卸載0 - 23,000 rpm/sec，100 mm SI 晶圓可編程邏輯控制器 (PLC) 系統控制器最大限度。晶圓：4" (JS401-100)、6" (JS401-150)、8" (JS401-200)、12" (JS401-300)可選手動 PR 分配器、EBR 和顯影劑可選的手動晶圓對準工具標準同時分配能力擴展到 4 個單位（帶壓力罐）   -- 光刻膠、EBR、HMDS、BSR 或顯影安全性：真空吸盤聯鎖可選地板類型：HEPA 過濾器、排氣自動阻尼器和晶圓裝載對齊帶有擺動噴嘴的可選自動點膠裝置Jaesung JS401-150 旋涂機 Spin CoaterJS401-150 臺式系列小型基材旋涂機專為各種手動和自動研發過程中的多功能性、易用性和安全性而設計。旋涂機非常適合硅晶片、玻璃、大型光掩模、掩模版的涂層和顯影等工藝?！?精確的溫度控制● 易于使用● 可重復的性能● 靈活性● 經濟的臺式系統中的可編程性。規格可編程 20 個步驟，存儲 20 個配方PLC和觸摸屏操作準確度 +- 1 RPM最高轉速：6,000加速度：3,000RPM/秒。加速和減速可設置為 0.1 秒。SUS304 主體和碗，易于清潔和耐化學性排水口碗的透明 PC 蓋最大150mm直徑板標準干式真空泵：100 升/分鐘，0.5 ATM標準樣品夾頭尺寸 370W x 370D x 375H 毫米220VAC，60Hz，5安培重量：25 公斤

JAESUNG JS301 旋涂系統 SPIN COATING SYSTEMJAESUNG JS301 旋涂機 Spin Coater 用戶友好的模擬可編程 JS301 模型為客戶的重要實驗提供了準確性和可靠性。 JS301臺式旋涂系統無故障、易于使用、結構緊湊、堅固耐用，以具有競爭力的價格提供給需要各種實驗和高性能的客戶。引腳精度旋轉速度重復性：< 1 %旋轉速度分辨率：< 1 %基板尺寸（<1 cm - 300 mm round / 220 x 220 square） 涂布機型號 JS401 是 Jaesung Engineering 的基本產品?？煽啃訮P 和不銹鋼 304 結構1 年保修（零件和人工）向客戶提供無限的應用程序 程序和硬件數字轉速顯示和 3 個數字計時器最大限度。晶圓：4" (JS301-100)、6" (JS301-150)、8" (JS301-200)每個程序 3 個步驟步進時間的 1 秒分辨率最大旋轉速度 4 - 6,000 rpm旋轉速度加速度：0 - 10,000 轉/秒卸載0 - 6,000 rpm/sec，100 mm SI 晶圓堅固的結構安全性：真空吸盤聯鎖Jaesung JS301-200 旋涂機 Spin Coater JS301-200 臺式系列小型基材旋涂機專為各種研發過程中的多功能性、易用性和安全性而設計。該旋涂機非常適合硅晶片、玻璃、大型光掩模、掩模版的涂層和顯影等工藝。 ● 堅固的結構● 易于使用● 可重復的性能● 靈活性● 經濟的臺式系統規格可編程 3 步，3 種速度數字轉速計和計時器準確度 +- 1 % 在設定的 RPM最高轉速：4,500加速度：3,000RPM/秒。SUS304 主體和碗，易于清潔和耐化學性排水口碗的透明 PC 蓋最大 200 毫米直徑和 150x150 毫米盤子標準干式真空泵：100 升/分鐘，0.5 ATM標準樣品夾頭尺寸 500W x 450D x 275H mm220VAC，60Hz，3安培重量：30 公斤

JAESUNG JS301 旋涂系統旋涂機 JS301用戶友好的模擬可編程 JS301 模型為客戶的重要實驗提供了準確性和可靠性。 JS301臺式旋涂系統無故障、易于使用、結構緊湊、堅固耐用，以具有競爭力的價格提供給需要各種實驗和高性能的客戶。引腳精度旋轉速度重復性：< 1 %旋轉速度分辨率：< 1 %基板尺寸（<1 cm - 300 mm round / 220 x 220 square） 涂布機型號 JS401 是 Jaesung Engineering 的基本產品?？煽啃訮P 和不銹鋼 304 結構1 年保修（零件和人工）向客戶提供無限的應用程序 程序和硬件數字轉速顯示和 3 個數字計時器最大限度。晶圓：4" (JS301-100)、6" (JS301-150)、8" (JS301-200)每個程序 3 個步驟步進時間的 1 秒分辨率最大旋轉速度 4 - 6,000 rpm旋轉速度加速度：0 - 10,000 轉/秒卸載0 - 6,000 rpm/sec，100 mm SI 晶圓堅固的結構安全性：真空吸盤聯鎖JAESUNG  JS301-150 旋涂機 Spin Coater JS301-150 臺式系列小型基材旋涂機專為各種研發過程中的多功能性、易用性和安全性而設計。該旋涂機非常適合硅晶片、玻璃、大型光掩模、掩模版的涂層和顯影等工藝?！?堅固的結構● 易于使用● 可重復的性能● 靈活性● 經濟的臺式系統規格可編程 3 步，3 種速度數字轉速計和計時器準確度 +- 1 % 在設定的 RPM最高轉速：6,000加速度：3,000RPM/秒。SUS304 主體和碗，易于清潔和耐化學性排水口碗的透明 PC 蓋最大直徑 150mm & 100x100mm 板標準干式真空泵：100 升/分鐘，0.5 ATM標準樣品夾頭尺寸 350W x 450D x 275H mm220VAC，60Hz，3安培重量：20公斤

JAESUNG JS301 旋涂系統旋涂機 JS301用戶友好的模擬可編程 JS301 模型為客戶的重要實驗提供了準確性和可靠性。 JS301臺式旋涂系統無故障、易于使用、結構緊湊、堅固耐用，以具有競爭力的價格提供給需要各種實驗和高性能的客戶。引腳精度旋轉速度重復性：< 1 %旋轉速度分辨率：< 1 %基板尺寸（<1 cm - 300 mm round / 220 x 220 square） 涂布機型號 JS401 是 Jaesung Engineering 的基本產品?？煽啃訮P 和不銹鋼 304 結構1 年保修（零件和人工）向客戶提供無限的應用程序 程序和硬件數字轉速顯示和 3 個數字計時器最大限度。晶圓：4" (JS301-100)、6" (JS301-150)、8" (JS301-200)每個程序 3 個步驟步進時間的 1 秒分辨率最大旋轉速度 4 - 6,000 rpm旋轉速度加速度：0 - 10,000 轉/秒卸載0 - 6,000 rpm/sec，100 mm SI 晶圓堅固的結構安全性：真空吸盤聯鎖JAESUNG JS301-100 Spin Coater旋涂儀JS301-100 臺式系列小型基材旋涂機專為各種研發過程中的多功能性、易用性和安全性而設計。該旋涂機非常適合硅晶片、玻璃、大型光掩模、掩模版的涂層和顯影等工藝?！?堅固的結構● 易于使用● 可重復的性能● 靈活性● 經濟的臺式系統規格可編程 3 步，3 種速度數字轉速計和計時器準確度 +- 1 % 在設定的 RPM最高轉速：6,000加速度：3,000RPM/秒。SUS304 主體和碗，易于清潔和耐化學性 排水口碗的透明 PC 蓋最大 100 毫米直徑和 90x90 毫米板標準干式真空泵：100 升/分鐘，0.5 ATM標準樣品夾頭尺寸 350W x 450D x 275H mm220VAC，60Hz，3安培重量：20公斤

JAESUNG JS201 旋涂系統JS201-100 Spin Coater旋涂儀JS201-100 臺式系列小型基材旋涂機專為各種研發過程中的多功能性、易用性和安全性而設計。 該旋涂機非常適合硅晶片、玻璃、大型光掩模、掩模版的涂層和顯影等工藝?！?堅固的結構● 易于使用● 可重復的性能● 靈活性● 經濟的臺式系統規格可編程 2 步，2 種速度數字 RPM 儀表和計時器 n準確度 +- 0.5 % 在設定的 RPM最高轉速：6,000加速度：3,000RPM/秒。SUS304 主體和碗，易于清潔和耐化學性排水口碗的透明 PC 蓋最大100mm直徑板標準干式真空泵：100 升/分鐘，0.5 ATM標準樣品夾頭尺寸 300W x 370D x 275H 毫米220VAC，60Hz，3安培重量：20公斤

Jaesung Engineering 提供半導體、化學、物理、材料和 MEMS 領域所需的解決方案和設備。 為廣泛領域的光刻技術提供制造和實驗室設備提供了一個環境，可以在該環境中執行抗反射涂層、各種聚合物、光刻膠和導電薄膜的各種完整應用。Jaesung 旋涂機 JS201用戶友好的模擬可編程模型 JS201 在您的關鍵實驗中提供準確性和可靠性。 JS201 旋涂系統使用方便、結構緊湊、堅固耐用，是一種臺式類型，以具有競爭力的價格提供給需要高性能的客戶。    它是研究機構、大學和企業最暢銷的型號。引腳精度? 轉速重復性：< 0.5 %? 旋轉速度分辨率：< 0.5%? 基板尺寸（<1 cm - 100 mm round / 3" x 3" square）?可靠性? 全不銹鋼 304 結構? 1 年保修（零件和人工）? 向客戶提供無限的應用程序程序和硬件：? 數字轉速顯示和 2 個數字計時器? 最大限度。晶圓：4"? 每個程序 2 個步驟? 1 秒的步進時間分辨率? 旋轉速度 0 - 6,000 rpm（可選 10,000 RPM）? 旋轉速度加速：? 0 - 10,000 rpm/秒卸載? 0 - 6,000 rpm/sec，100 mm SI 晶圓? 堅固的結構? 安全性：真空吸盤聯鎖? 實惠的價格